Die Photolithographie ist ein lithographisches
Reproduktionsverfahren, bei
dem mittels Belichtung Muster auf einer
mit Photoemulsion beschichteten Grundplatte
aufgebracht werden. Diese Verfahren
ermöglicht die Herstellung von sehr
feinen 2D-Teilen.
Zur Herstellung oder Reproduktion von
hochpräzisen und komplexen Bauteilen
werden vorwiegend Nickel oder Kupfer
eingesetzt. Vielfach werden die Bauteile
noch mit Gold oder Silber nachveredelt.
Die Geometrie der Öffnungen kann
quadratisch, hexagonal, schlitzförmig oder
rund in verschiedenen Anordnungen oder
sogar als Zufallsraster gestaltet werden.
Wandstärken von 0.01 mm bis 0.5 mm und
größer sind möglich. Auch die Stegform
kann einseitig oder beidseitig konisch abgebildet
werden.
Das Verfahren erlaubt die Produktion
von sowohl flachen als auch zylindrischen
Mustern; das letztgenannte ermöglicht
sogar die Herstellung von nahtlosen Zylindern.
Im konventionellen Verfahren wird das
herzustellende Muster zunächst auf Lithofilm
kopiert. Der Film wird dann auf einem
schon mit Fotoresist beschichteten Grundkörper
aufgelegt und belichtet. Nach der
Belichtung wird der Fotoresist mit Wasser
oder einem entsprechenden Lösungsmittel
entwickelt. Die nicht-belichteten Teile
lassen sich ganz leicht auswaschen und
die belichteten Teile werden durch das
UV-Licht gehärtet und bleiben auf dem
Grundkörper. Nach dem Vernickeln lassen
sich die Teile leicht von der Grundpaltte
entfernen.
